一、中国最先进的手机芯片光刻机？
现在成熟的制程工艺节点在90nm，据传一两年内将实现28nm的整机突破，光刻机的制造技术中，光源问题是相当重要的一环，分为紫外光源(UV )、深紫外光源(DUV)、极紫外光源( EUV)。
其中，极紫外光源的制造方法，主要的是采用将二氧化碳激光照射在锡等靶材上的办法，以此激发出13.5 nm的光子，实现EUV光源的制造。
二、中国造出顶级光刻机能制造华为手机芯片吗？
如果中国造出顶级光刻机，当然能制造华为手机芯片。但是由于国外技术封锁，中国制造光科技还有很长的路要走。
三、中国高端光刻机啥时候能研发出来？
光刻机的制造看似是一台机器的制造，实际上涉及的领域非常多，也非常复杂，因此不是短时间内能进行量产的。
目前，我国的芯片生产技术和荷兰阿斯麦尔的差距大概是10年左右。我国光刻机研发主要是在沈阳光机所进行，其实我国在14年前就开始进行布局，目前已在很多重大技术上都有了相应的突破，国产光刻机在28nm以上制程的芯片生产领域还是值得期待的，五年内实现量产的可能性极高。至于更先进制程，还需要长期的努力。
四、国内有手机芯片光刻机吗？
国内有手机芯片光刻机。
国内不但有手机芯片光刻机，而且还有纯国产的光刻机。全球目前只有四家公司有能力制造光刻机，唯一高端的荷兰阿斯麦尔euv光刻机、日本尼康和佳能的duv光刻机，中国上海微电子的duv光刻机。上海微电子去年只是做的是低端90纳米的光刻机，去年年底28纳米中端duv光刻机通过技术检测和认证，今年应该能量产了。
五、中端光刻机和高端光刻机的区别？
光刻是芯片制造过程中最重要、最关键的环节，光刻的原理是利用光源，将芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆片上。
而光刻机的精度，就决定了芯片电路图的精度，就代表着芯片的制造工艺，所以能够买到高端光刻机，也是芯片制造水平能不能达到顶级的先决条件之一。
六、荷兰同意出口高端光刻机了吗？
荷兰在近期并未同意出口高端光刻机。实际上，荷兰政府一直在密切关注全球芯片供应链的动态，并与中国政府就光刻机出口问题进行谈判。然而，由于各种原因，双方在高端光刻机出口方面的共识尚未达成。
需要注意的是，随着全球半导体产业的不断发展，各国在技术转让和出口管制方面的政策也在不断调整。因此，关于荷兰是否同意出口高端光刻机的问题，可能在未来发生变化。请密切关注相关新闻报道，以获取最新的信息。
七、euv光刻机有哪些高端技术？
主要是光电、化工、机械等高端技术。
euv光刻机核心系统涉及很多的高端技术，比如euv光源是13.5纳米极紫外光光源，是由激光轰击锡滴雾化微粒产生的，目前只有美国一家公司能够提供。再比如德国蔡司光学镜头组，其镜头平整度为全球最顶级的。还有超高精度双工件台技术、光刻胶技术、金属化工气象离子沉积技术等等。
八、中端光刻机与高端光刻机差距大吗？
中端光刻机与高端光刻机差别巨大。
高端光刻机值得是荷兰阿斯麦尔生产的euv13.5纳米极紫外光光源的光刻机，是目前全球唯一能制造的高端光刻机。中端光刻机通常指45纳米以内的光刻机，目前中端光刻机有日本的尼康和佳能，还有我国的上海微电子。今年上海微电子制造的28纳米光刻机通过验证，我国跨进中端光刻机时代，此前上海微电子能制造是90纳米的光刻机。
九、全球最先进的手机芯片光刻机？
相信大家都知道，在全球芯片产业链中，掌握最大话语权无疑就是荷兰ASML公司，因为在全球范围内只有荷兰ASML公司能够生产制造最顶尖的EUV光刻机，并且这台EUV光刻机设备售价还非常昂贵，一台售价高达10多亿人民币，但即便是这么贵得到EUV光刻机，也因为产能有限，一年只能够生产制造几十台，所以一直都处于“供不应求”的局面，在2020年，荷兰ASML公司制造生产了近35台EUV光刻机设备，预计在2021年也能够生产制造40台左右EUV光刻机
十、制造高端光刻机需要什么？
制造高端光刻机需要：
目前一台高端的光刻机有上万个零部件构成（整机光刻机包含曝光系统(照明系统和投影物镜)、工件台掩模台系统、自动对准系统、调焦调平测量系统、掩模传输系统、硅片传输系统、环境控制系统、整机框架及减振系统、整机控制系统、整机软件系统等）
这些零部件有很多都是定制的，甚至有一些零部件都需要工程师经过机械慢慢打磨出来。
在这些零部件当中技术难度最大的就是光源、镜头、淹模板、能量控制器以及控制台。