一、5nm刻蚀机是什么？
最简单的讲就是可以帮助华为造麒麟芯片的机器
二、上海刻蚀机？
上海的刻蚀机已经生产出来了。就是中国的中微。
2021年5月8日消息，中微公司成功研制出3nm蚀刻机，且完成了原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段。
中微半导体设备（上海）有限公司是一家具有自主研发功能的科研企业，研发了多款具自主知识产权的芯片设备，并在全球范围内申请了1200余项专利。
三、中微刻蚀机与阿斯麦刻蚀机？
中微生产的是蚀刻机，阿斯麦尔生产的是光刻机并不生产蚀刻机。
中微公司已经成功研制出了3nm蚀刻机，并且已经完成原型机的设计，制造和测试，目前已经进入量产阶段，突破了技术壁垒，处于世界领先水平，不仅能够提供设备支持，还可以对国外进行反制。。阿斯麦尔为半导体生产商提供光刻机及相关服务，其生产的13.5纳米极紫外光光源的EUV光刻机是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。阿斯麦尔旗下子公司及相关公司多为光刻机相关零部件制造商，并不涉及蚀刻机制造。
四、5nm刻蚀机厂家有几家？
作为全球最大的芯片消费市场，截至2019年中国芯片市场规模已经增长到3104亿美元，与10年前相比扩大了140%。而近些年来，中国开始意识到芯片自给的重要性，因此芯片及其生产技术已经成为中国提升本国科技实力的重要领域之一。因此，在近期中国批准了美以2大芯片巨头合并之后，中国芯片及其生产设备企业也在不断提高自身竞争力。
继中国首条14nm芯片生产线正式投产及长江存储128层3D NAND闪存芯片投产发布之后，中国近期在芯片生产设备方面又传来一大好消息。据观察者网周四（4月23日）报道，在去年年底宣布其5nm蚀刻机获得台积电认可之后，中微公司近期发布的2019年财报显示，该企业5nm蚀刻设备已经获得批量订单。
据悉，5nm蚀刻机目前是集成电路制造领域中最为先进的工艺，除了中微公司之外，目前只有三星和台积电声称掌握了该工艺，也就是说目前全球仅3家企业拥有这一技术。不过，目前只有台积电能量产5nm蚀刻机，并将于今年第二季度扩大其产量；而三星则预计要到今年6月底才能完成5nm产线的建设，并且预计最早将于今年年底进行量产。
一直以来，全球半导体设备市场都是有国外厂商垄断。数据显示，2018年全球前5大厂商在全球的市场份额已经超过65%。而与长江存储相似，中微公司作为半导体设备市场的追赶者，要在短期内打破外国的垄断，恐怕还有难度。不过，如今中微公司在全球蚀刻设备市场已经占有一席之地，这无疑有助于提高我国芯片生产设备的供应安全。
中微公司的董事长尹志尧此前表示，在一些最高端的刻蚀应用中，该公司的刻蚀机还有的地方，因此还需要进行进一步的技术创新和设备升级，该公司已经在开发新一代的蚀刻机。随着中微公司技术持续升级，未来中企在芯片生产设备的技术方面与外国厂商的差距有望进一步缩小。
五、什么叫刻蚀机？
刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器。
蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中，可对各种金属和金属制品的表面蚀刻图纹、花纹、几何形状，并能精确镂空，也可对不锈钢进行蚀刻和薄板切割，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
六、icp刻蚀机原理？
ICP刻蚀机是一种常用于集成电路制造中的刻蚀设备，其原理是利用高频感应等离子体的化学反应和物理作用来刻蚀硅片表面。
具体来说，ICP刻蚀机内部有一个封闭的反应室，室内填充了一定的刻蚀气体，如氢气、氟气等。在室内通入高频电源，形成高频电磁场。当气体分子受到高频电场的作用，产生电离和激发，形成等离子体。等离子体中的电子和离子会在高能碰撞中释放出较大的能量，从而引发刻蚀化学反应。同时，等离子体中的离子也会受到电场的作用，向硅片表面加速运动，并与硅原子发生碰撞，从而将硅原子脱离硅片表面，实现刻蚀的过程。
ICP刻蚀机的优点是刻蚀速度快、刻蚀深度均匀、刻蚀质量高、氧化层薄等，广泛应用于半导体、光电子、微电子等领域的制造和研究。
七、世界刻蚀机排名？
刻蚀机排名前三是泛林半导体、应用材料、东京电子。
蚀刻机主要负责把复制到硅片上的电路结构进行微雕，雕刻出沟槽和接触点，为线路提供空间。美国泛林半导体、应用材料以及日本的东京电子这三家顶尖的蚀刻机公司占据了94%的市场。国内蚀刻机龙头企业是中微半导体，精度5纳米。
八、icp刻蚀机全称？
ICP刻蚀机，即电感耦合等离子体(Inductively coupled plasma，ICP）刻蚀机。
需要刻蚀的材质，可以分为三大类
1.硅刻蚀机（polysilicon etch）：刻蚀单晶硅、多晶硅、硅化物等
2.电介质刻蚀机（dielectric etch）：刻蚀氧化硅、氮化硅、光刻胶等
3.导体（金属）刻蚀机（conductor etch）：刻蚀铝、钨、铜及合金层等
九、5nm的刻蚀机和光刻机差别？
5n川光刻机和刻蚀机的区别主要表现在三个方面:
一、难度:光刻机难，刻蚀机难。
原理:光刻机打印图纸，刻蚀机根据打印的图案蚀刻掉有图案/无图片的部分，剩下的留下。
第三，流程操作不同
(1)掩模版对准:利用光化学反应原理和化学物理刻蚀方法，将掩模版上的电路图形转移到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。在晶圆表面，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻技术也是芯片制造中的核心环节。
(2)、刻蚀机:通过化学和物理的方法，将显影后的电路图永久准确地留在晶圆上，选择性地去除硅片上不需要的材料。有两种蚀刻方法，湿法蚀刻和干法蚀刻。
光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。
通常，光刻工艺须经历清洗和干燥硅片表面、涂底漆、旋涂光刻胶、软烘烤、对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤和蚀刻的过程。
刻蚀机等离子，又称等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子刻蚀机、等离子表面处理器、等离子清洗系统等。
等离子蚀刻是较常见的干法蚀刻形式。其原理是暴露在电子区的气体形成等离子体，产生的电离气体和释放的高能电子组成的气体形成等离子体或离子。当电离的气体原子被电场加速时，它们会释放出足够的力，紧紧地附着在材料上，或者利用表面斥力刻蚀表面。
十、5nm刻蚀机可替代5nm光刻机吗？
不行，
刻蚀机的工作原理是浸蚀，主要是用化学反应。
光刻机的工作原理是利用光线的刀刃作用。