一、由MEMS技术研发的产品及详解
我认为 MEMS压力传感器的结构与工作原理及应用技术 MEMS是指集微型压力传感器、执行器以及信号处理和控制电路、接口电路、通信和电源于一体的微型机电系统。 MEMS压力传感器可以用类似集成电路（IC）设计技术和制造工艺，进行高精度、低成本的大批量生产，从而为消费电子和工业过程控制产品用低廉的成本大量使用MEMS传感器打开方便之门，使压力控制变得简单易用和智能化。 MEMS压力传感器原理： 目前的MEMS压力传感器有硅压阻式压力传感器和硅电容式压力传感器，两者都是在硅片上生成的微机械电子传感器。硅压阻式压力传感器是采用高精密半导体电阻应变片组成惠斯顿电桥作为力电变换测量电路的，具有较高的测量精度、较低的功耗，极低的成本。惠斯顿电桥的压阻式传感器，如无压力变化，其输出为零，几乎不耗电。 MEMS硅压阻式压力传感器采用周边固定的圆形的应力杯硅薄膜内壁，采用MEMS技术直接将四个高精密半导体应变片刻制在其表面应力最大处，组成惠斯顿测量电桥，作为力电变换测量电路，将压力这个物理量直接变换成电量，其测量精度能达0.01%～0.03%FS。硅压阻式压力传感器结构如图3所示，上下二层是玻璃体，中间是硅片，硅片中部做成一应力杯，其应力硅薄膜上部有一真空腔，使之成为一个典型的绝压压力传感器。应力硅薄膜与真空腔接触这一面经光刻生成如图2的电阻应变片电桥电路。当外面的压力经引压腔进入传感器应力杯中，应力硅薄膜会因受外力作用而微微向上鼓起，发生弹性变形，四个电阻应变片因此而发生电阻变化，破坏原先的惠斯顿电桥电路平衡，电桥输出与压力成正比的电压信号。 传统的机械量压力传感器是基于金属弹性体受力变形，由机械量弹性变形到电量转换输出，因此它不可能如MEMS压力传感器那样做得像IC那么微小，成本也远远高于MEMS压力传感器。相对于传统的机械量传感器，MEMS压力传感器的尺寸更小，最大的不超过1cm，使性价比相对于传统“机械”制造技术大幅度提高。
二、Applied Biocode数码液相芯片的工作原理是什么？
Applied BioCode首创的数码液相芯片（Digital Liquid Chip）核心技术，是基于数码磁珠 (Barcoded Magnetic Beads，BMB) 的高通量检测技术平台，数码磁珠是将顺磁性材料掺入具有生物兼容性的高分子聚合物内，通过光刻法将12位二进制的数字条码刻到磁珠上，通过这种工艺可以制备得到4096种不同编码的数码磁珠。通过光刻法制备的数码磁珠，其批间差小，且具有极稳定的表面化学特性，同时数码磁珠上的条形码图案可以提供强对比度的信号，这些都保证了使用数码液相芯片技术可以得到更加精准且稳定的检测结果。
数码液相芯片技术平台为客户提供了一个开放的高通量技术平台，客户可以使用该技术平台基于各自需求来开发高通量的检测项目，同时客户也可以使用Applied BioCode 及其商业合作伙伴已经开发完善的商业化试剂盒，为客户提供了更多的选择。
数码液相芯片可以在一个样本中同时获得数十甚至数百种的检测结果。可应用于传染病、遗传性疾病、过敏原、自身免疫、肿瘤、精准医学、动物检验、食品检验、遗传医学、生命科学研究、基因表达谱、药物及生物标志物等疾病的检测和筛选多个领域。
该技术平台可以用于蛋白、抗体、核酸的高通量多重检测，一次反应可以得到多达4096个指标的检测结果，使客户在最短时间内获得更多的数据量，在节省时间的同时大大提高了实验效率。
三、p45芯片组和p43芯片组有什么区别！
首先，P45采用65nm工艺生产，而目前的P35和965一样还是用90nm生产的，功耗和发热都会比即将到来的P45要高。第二、P45支持PCI-E 2.0技术，并采用了Dual PCI-E设计，可以组成一个PCI-E 16x或两个PCI-E 8x接口，对于AMD的交火技术的支持更加完善，而目前P35仅为PCI-E 16x+4x的模式，并且是1.0版本的PCI-E，同样规格的接口会比P45的速度慢一倍。
从规格上看，P35大多支持最高1333MHz FSB，这个规格已经成为FSB总线在主流市场的最终定格规格了，因为FSB即将被下一代Nehalem平台的QPI总线取代。内存部分，由于DDR3在2009年才会逐渐步入主流，因此2008年主流的P35和P35主板还是会使用DDR2模组。
综上所述，如果CPU已经选择了E8，还是用P45，如果用E4，用P31,P35都行。
主要区别在于：前者的南桥新片是ICH10，后者的南桥芯片是ICH10R（两种芯片区别在于对高速硬盘的支持，类似内存的双通道技术）；前者是p43设计（p43设计本身就不支持交火），后者是p45设计但不支持交火（其实后者也是阉割版的p45）
如果使用双显卡用P45，其实没有多大的提高 ，P43已经很好了
想交火就P45，单卡走天下就是P43
四、光雕是如何实现的?
我们知道，光雕是一种光盘标签制作技术，支持该技术的刻录机可以将个性化的文字、图像等内容刻录到光盘标签面上。那么，怎样才能实现光雕刻录呢？支持光雕技术的刻录机、光雕刻录盘、制作及刻录软件三者缺一不可。
1.刻录机
支持光雕功能的刻录机的外壳上通常带有LightScribe 标志（图1）。现在市面上的光雕刻录机有IDE和SATA两种接口的产品，应该如何进行选购呢？这两种接口类型上的差别对刻录机性能的影响并不大，所以我们主要还是从兼容性方面来考虑。
对于早期支持SATA接口的主板，例如i865/875和NF2等系列芯片组，使用SATA接口的DVD刻录机有时会有兼容性问题，而且这类主板上提供的SATA接口数量比较少，所以这类主板用户应该优先考虑IDE接口的DVD刻录机。而使用915系列、NF3系列或更高规格芯片组主板的朋友，则最好购买SATA接口的产品。
2.光雕刻录盘
光雕刻录盘的外形与普通盘片基本一致，它分为两面，正面和普通刻录盘一样，为数据面，用于存储刻录的数据。背面则为用于刻录的光雕涂层，这一层主要由抗紫外线基料、催化剂、无色母体染料和图像稳定剂构成，所以盘片颜色呈现为单色的金黄色，而不是传统的光盘生产商与速度标志等信息。
现阶段的光雕技术只能生成黑白的灰度图像。由于光雕刻录也是通过刻录机的读写光头发射激光来完成，因此在进行光雕刻录时，只须将刻录盘的光雕涂层面朝下，放进刻录机即可。
3.制作和刻录软件
光雕刻录机附送的刻录软件中一般都集成了光雕刻录插件，可以直接进行光盘标签的制作与刻录。例如OEM版的Nero Suite套装软件，打开Nero StartSmart程序后会看到其他版本的Nero所没有的“打印LightScribe标签”选项（图2）。